據(jù)國外媒體報道,IBM在近期內將會給大家展示他們的新成果,即IBM已經(jīng)突破應用于光學平板印刷的制造芯片方面的技術,已經(jīng)達到了32nm。大多的制作技術還不能夠在32nm的微處理器上進行蝕刻。但是IBM克服了這一困難,可以以29.9nm的寬度進行蝕刻,完成了193nm縱深紫外線(DUV)光學平版印刷術的開發(fā)。IBM的博士RobertDAllen表示,IBM阿爾馬登的研究中心的平版印刷術相關的管理人,我們的目標是不斷的推進光學平版印刷技術,讓其發(fā)展到一個頂峰,直到不能再繼續(xù),然后往其它的方向發(fā)展。這次研究的成功證明了,莫爾定律在芯片制造方面至少還有7年的發(fā)展空間。
現(xiàn)在大多的處理器的采用的還是90nm技術,英特爾剛開始步入65nm臺階。
IBM計劃在SPIE微蝕刻技術國際研討會上展示它的這一成果。